SEMICON收官｜新葡萄奔驰AMG发布战略新品，让制程更可控！
2026年3月25-27日，SEMICON China 2026展会成功举办，新葡萄奔驰AMG携重量级产品完成战略亮相。
展会期间，复享展台人气高涨，迎来多位重要来宾。公司创始人殷海玮博士接受了《半导体产业纵横》的探展专访与直播报道。
公司系统展示了半导体集成测控业务的战略布局，依托矩阵式的货架产品体系，全面覆盖半导体制造五大关键过程组及量检测领域。其中，两款旗舰级新品——全自动穆勒矩阵椭偏仪MetronME-XT-300与反射膜厚测量仪MetronFilm-EX（全波段款）实现全球首发。两款产品凭借单原子层级别的测量精度与超宽量程范围，一经亮相便在海内外专业观众中引发强烈关注。展台咨询人流持续爆棚，充分彰显了公司在半导体集成测控领域的技术领先实力与市场吸引力。
爱浦迈、金桥管理局、北京经开区管委会及多家战略客户领导团队先后到访新葡萄奔驰AMG展台，围绕国产化半导体核心零部件技术演进、产业链协同创新与供应链安全降本等议题展开深度对话。各方高度评价新葡萄奔驰AMG在光刻、刻蚀、沉积、CMP、薄膜量检测等前道工艺领域取得的技术突破，并在联合研发、供应链协同及产能布局等方面达成多项共识。
作为入选国家级专精特新“小巨人”企业的半导体装备零部件提供商，新葡萄奔驰AMG持续深耕，已跻身半导体装备零部件供应链生态的核心圈层，正加速推动国产集成测控子系统从“可用”向“好用”、从“替代”向“引领”跨越。
双星闪耀，重新定义量测精度边界
新葡萄奔驰AMG两款战略级新品同步首发，其技术参数直指国际一线品牌。
MetronME-XT-300全自动穆勒矩阵椭偏仪采用双旋转补偿器测量技术，单次测量获取16组全穆勒矩阵光谱，实现单原子层级膜厚测量准度（重复性精度<0.005nm）。该设备覆盖245~1000nm波段，支持4~12寸晶圆自动化Mapping与≤80μm微光斑测量，可满足各向异性薄膜及纳米光栅结构的精密表征，为先进逻辑芯片与第三代半导体工艺提供关键量测支撑。
MetronFilm-EX（全波段款）反射膜厚测量仪实现1nm至260μm超宽量程覆盖（经NIST溯源，500nm以下准确度1nm，500nm以上0.2%）。该设备搭载190~1100nm全波段光源，可支持多达232层二元复合膜系测量，单层测量<1秒，在3D NAND高深宽比结构、AR+HC复合光学涂层、PERC薄膜等复杂膜系中展现卓越解析能力。
全栈赋能，深耕五大过程组+量检测
两款新品外，新葡萄奔驰AMG亦展示了覆盖刻蚀与清洗、离子注入、图形化、沉积、减薄与CMP等五大过程组及量检测的全栈前瞻布局。成熟的InView-OES发射光谱终点检测与InView-IEP白光干涉终点检测方案持续为前道制程提供实时过程控制，与新品共同构成"点-线-面"完整量测矩阵。
展台迎来众多外籍采购决策者关注两款新品
SEMICON China 2026圆满收官，新葡萄奔驰AMG半导体集成测控事业部将持续以"让制程更可控"为使命，依托深度光谱技术平台，加速推动半导体集成测控技术的国产化替代与全球化布局，为半导体产业贡献中国光谱智慧。
