MetronFilm
反射膜厚测量仪
1nm~260μm 全覆盖
<0.02nm 重复精度
强大智能算法
MetronFilm 反射膜厚测量仪 是基于光学非接触技术，用于精密快速检测薄膜厚度的专业设备。采用自研高分辨光谱仪，搭配强大智能算法，可以进行透明或半透明的薄膜厚度及光学常数的无损测量。
1nm~260μm 超宽量程
<0.02nm 重复精度
溯源 NIST，测量准确有保证
适用多种先进工艺
光学常数拟合
1nm~260μm 超宽量程
拥有超广域测量范围，量程覆盖 1nm~260μm，从超薄膜至厚膜均可准确测量；
<0.02nm 重复精度
搭配自研高分辨光谱仪，重复精度低至 0.02nm，保证膜厚测量准确性，满足半导体等光电领域的严苛需求；
溯源 NIST
测量准确有保证 准确度 1nm @ 500nm 以下，或 0.2 % @ 500nm 以上*；
适用多种先进工艺
能实现复杂膜系的测量，二元复合多层膜实测可多达 232 层，可应用于如 3D NAND、AR+HC 复合光学涂层、 PERC 薄膜等等；
光学常数拟合
支持单/多膜层的逐层 n值（折射率）以及 k值（消光系数）等光学常数快速检测，单层膜的膜厚及光学常数拟合可在 1s 内完成。
技术参数
技术参数
型号 | 信息详情 |
MetronFilm: | 厚度测量范围 15nm ~ 260μm，VIS |
MetronFilm-EX: | 厚度测量范围 1nm ~ 260μm，UV+VIS |
MetronFilm
项目内容 | 信息详情 |
波长范围： | 380~1100nm |
光源： | 内置卤素灯 |
厚度测量范围： | 15nm ~ 260μm |
测量 n&k 最小厚度： | 50nm |
准确度： | 2nm @ ≤1000nm，或 0.2% @ ≥1000nm |
精度 ¹： | 0.02nm |
稳定性 ²： | 0.05nm |
光斑大小： | 1.5mm |
样品尺寸： | 直径从 1mm 到 300mm 或更大 |
测量速度： | 单层少于 1s |
MetronFilm-Ex
项目内容 | 信息详情 |
波长范围： | 190~1100nm |
光源： | 外置氘灯 + 卤素灯 |
厚度测量范围： | 1nm ~ 260μm |
测量 n&k 最小厚度： | 50nm |
准确度： | 1nm @ ≤500nm，或 0.2% @ ≥500nm |
精度 ¹： | 0.02nm |
稳定性 ²： | 0.05nm |
光斑大小： | 1.5mm |
样品尺寸： | 直径从 1mm 到 300mm 或更大 |
测量速度： | 单层少于 1s |
选配模块
型号 | 信息详情 |
备注: | 取决于材料 |
| ¹ 在连续 10 天内，对 800nm 厚的硅基二氧化硅（SiO₂-on-Si）薄膜每日进行 100 次测量，此值为这些每日平均值的标准偏差值的平均值（1σ） |
| ² 在连续 10 天内，对 800nm 厚的硅基二氧化硅（SiO₂-on-Si）薄膜每日进行 100 次测量，此值为这些每日平均值的 2 倍标准差（2σ） |
典型应用领域
半导体制程 | 光学涂层 | 薄膜光电材料 | ||
3D NAND 是通过垂直堆叠多个交替层来突破 2D 结构扩展极限的先进闪存技术，堆叠层数可多达 200 层以上，需要光学无损测量来量化并验证逐层薄膜的均匀性和厚度。 | “AR（增透）+HC（硬质）”复合双层结构膜层是眼镜片、相机镜头常用的核心功能涂层，其膜厚和 n&k 值是关键变量，因此更需要无损、准确的检测来提升工艺和良率。 | 前表面减反射层（如 SiNₓ） 和背表面钝化层（如Al₂O₃/SiNₓ）是光伏 PERC电池中的核心结构，其膜厚和 n&k 的精确检测和控制是决定 PERC电池效率及量产稳定性的关键。 |
应用
案例
参考文献
Thin-film neural networks for optical inverse problem[J].
[1] Fan L J, Chen A, Li T Y, et al. Light: Advanced Manufacturing, 2021, 2:27. https://doi.org/10.37188/lam.2021.027
