MetronSEE
光谱椭偏仪
245~1000nm宽测量波段
高速光谱采集
1-8mm光斑灵活可调
MetronSEE 光谱椭偏仪是一款高速、高稳定性光学测量设备，基于多层膜干涉和椭偏测量原理，可实现透明、半透明介质膜、金属膜的膜厚和光学常数表征，以及块材光学常数表征，适用于半导体、液晶面板、太阳能电池、光学镀膜等行业。
旋转补偿器测量技术
极高灵敏度
高速光谱采集 支持在线集成
强大的数据分析能力
1-8mm光斑灵活可调 适配多种应用
旋转补偿器测量技术
可实现椭偏参数 Psi&Delta (N&C&S)、反射率、透射率、偏振度光谱的高精度测量；
宽测量波段
典型测量波段为 245~1000nm，支持向深紫外和红外波段扩展；
极高灵敏度
可实现单原子层级膜厚测量准度；
高速光谱采集
可实现毫秒级光谱测量与分析；
强大的数据分析能力
图形化拟合功能；
丰富的扩展功能
支持扩展毫米级大光斑测量和微米级微光斑测量两种模式，同时配备强大数据分析能力软件，材料库包括上百种典型材料光学常数，人机交互方便快捷。
技术参数
技术参数
型号 | 信息详情 |
MetronSEE: | 光谱椭偏仪 |
系统性能
项目内容 | 信息详情 |
仪器配置： | 单旋转补偿器型 |
测量波段： | 245~1000nm（可扩展选配 380~1690nm，193~1000nm，） |
测量范围： | 1nm~10μm |
波长间隔： | ≤1nm |
测量参数： | Psi&Delta，N&C&S，R，DOP |
大光斑尺寸： | 1-8mm |
入射角： | 65° 定角 |
单次测量时间： | ≤10s |
数据采集与分析软件： | 软件设计人性化，功能全，色散关系式全、可仿真样品的非理想结构，可对复杂各向异性等进行光学建模、仿真、拟合 |
膜厚重复性精度（1σ）： | 优于 0.005nm（100nm 硅基 SiO₂膜，30 次测量） |
折射率重复性精度（1σ）： | 优于 0.001nm（100nm 硅基 SiO₂膜，n @ 633nm，30 次测量） |
典型应用领域
半导体先进制程 | 光学元件 | 光伏电池 | ||
伴随着CMOS器件的持续缩小,传统的栅介质材料 SiO₂ 由于不可接受的隧穿漏电流和本身可靠性的问题,导致其继续作为栅介质材料的应用达到了物理极限。高介电常数材料（如 HfO₂）成为热点。因此研究高介电材料薄膜在不同退火工艺后的电学性能也成为精准管控先进制程的栅极性能、存储可靠性的关键需求。具体包括检测不同工艺后样品是否保持非晶结构，通过 n&k 推导其介电常数，测量等效氧化层的厚度等。还有隔离层（如 SiO₂/SiNₓ）的测定的色散特性与 n&k值，可以确保 3D NAND 堆叠层间光学匹配，避免信号干扰。 | AR/VR眼镜、相机镜头常用的复合多层增透涂层，其每层的膜厚和n&k值是决定这两大功能是否达标的关键变量；因此更需要无损、准确的膜厚和 n&k 的协同检测来提升工艺和良率。尤其是多层增透膜中的超薄过渡层（如 MgF₂，5~10nm），以及红外窗口的超薄抗腐蚀光学膜（3~8nm），准确测定这些超薄膜的膜厚及其专用光学常数，是同步匹配光学元件的膜系设计需求，保障光学透过率、反射率的精准控制的专业手段。 | 薄膜光电材料 TOPCon光伏电池的超薄隧穿氧化层（SiO₂，1~5nm，光伏专用超薄膜）、HJT 电池的超薄非晶硅本征层、以及 OLED器件的超薄有机发光层（EML，5~9nm）、封装超薄阻隔层（Al₂O₃，3~7nm）等等超薄膜层的厚度与其专用光学常数（主要 n&k值，含光伏膜层的折射率均匀性、OLED 膜层的透光系数等专属参数）的测定，均能助力支撑光电性能调控；直接关联电池的光电转换效率、是该行业工艺优化的关键。 |
应用
案例
参考文献
